作者：值友9951125541

10 月 2 日消息，英特尔上周表示，它已经开始在价值 185 亿美元的爱尔兰工厂使用 EUV 光刻机进行大规模生产，并称其为“里程碑时刻”。

英特尔技术开发总经理安・凯勒赫（Ann Kelleher）表示，英特尔将于今年率先引入下一代高数值孔径（High-NA）EUV 光刻机，而此前英特尔曾表示 High-NA 技术在 18A 节点上仅用于设备开发和验证，并将在 18A 之后的节点上正式投产。

有了 High-NA EUV 光刻机，理论上可以在英特尔实现其“四年五代工艺”的路上发挥关键作用。

安・凯勒赫表示，他们目前正按计划实现这一目标，现已完成两个制造工序，而第三个工序“正在迅速到来”，而且最后两个工序都取得了非常好的进展。英特尔预计今年晚些时候将在俄勒冈州收到首批 High-NA EUV 光刻机，而且英特尔将是首个获得这款机器的芯片制造商。

ASML 表示，一台 High-NA EUV 设备的体积和卡车相当，每台设备超过 1.5 亿美元，可以满足各类芯片制造商的需求，可以在未来十年内制造更小、更先进的芯片。

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